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刻蚀用托盘Etching Tray2
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郑州磨料磨具磨削研究所有限公司·更新于2023-08-15 07:48:52·184次访问
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主要特点:

刻蚀用托盘采用高纯无压烧结碳化硅陶瓷材料,具有硬度高,耐腐蚀、耐磨损,使用寿命长等特点,并且产品精度高、晶圆外延层刻蚀均匀性好。

Main features

The tray used for etching is made of high purity sintered silicon carbide ceramics without pressure.It has the characteristics of high hardness, corrosion resistance, wear resistance, long service life, high precision and good etching uniformity of wafer epitaxy layer.

 

应用领域:

应用于LED 晶圆芯片的外延层薄膜材料(GaN、SiO2 等)的ICP 刻蚀制程、半导体扩散用精密陶瓷零件及半导体晶圆的MOCVD 外延制程。

Application

ICP etching process of epitaxial film materials(GaN, SiO 2, etc.) for LED wafer chips, precision ceramic parts for semiconductor diffusion and MOCVD epitaxy process for semiconductor wafers.

 


规格型号:

我公司可按照客户的需求提供相应陶瓷托盘产品,直径范围:Φ50~500mm。托盘盘厚度:3~20mm,并且可以根据客户的要求进行设计和制造各种非标产品。

Specification:

Our company can provide the corresponding ceramic tray products according to the customer's needs, diameter range: 50~500mm. thickness:3~20mm, and can be designed and manufactured according to customer requirements of various non-standard products.


郑州磨料磨具磨削研究所有限公司(简称“三磨所”)成立于1958年,是我国磨料磨具行业的综合性研究开发机构,全国磨料磨具、超硬材料行业技术研究、开发、信息和咨询服务中心。1999年转制为科技型企业,隶属于世界五的“有限公司”。继1963年和1966年成功开发出一颗人造金刚石和立方氮化硼之后,我公司又相继开发出一系列空白的超硬材料制品、行业专用生产和检测设备仪器。1993年和2015年,“国家超硬材料及制品工程技术研究中心”和“超硬材料磨具国家重点实验室”分别依托我公司组建,标志着我公司在行业中的技术地位。 我公司致力于超硬材料制品和行业专用生产、检测设备仪器的研发与生产。现拥有陶瓷结合剂、树脂结合剂、金属结合剂、电镀金属结合剂超硬材料制品及行业专用生产、检测仪器设备等十余条生产线,具备年产60万件超硬材料制品和4000多台套设备仪器的生产能力。秉承“合力同行,创新共赢”的核心价值观,我公司始终以“以创新和有成效的工作促进行业发展,用辛勤和有价值的劳动创造幸福生活”为使命,致力于行业服务工作,努力成为“创新发展的前行者、社会价值的创造者、员工幸福的提升者”
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