1、主要用途：
用于各种金属材料或者薄膜的高温退火。
2、技术指标：
系统真空度：极限真空:5×10-6Pa；整个系统漏率小于1×10-7Pa·L/S工作真空:8×10-3Pa (1000℃退火温度下)．程序控温，均温区尺寸根据用户要求设计)。
工艺气体： H2或者其他非氧化性气体（也可不选）。
3、系统组成：
主要由真空抽气系统、真空测量系统、真空室、加热控温系统、电动升降系统、液氮冷阱、
辅助系统等组成。
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沈阳睿之达真空技术有限公司，具有丰富的真空应用技术基础与经验，能够满足各类真空设备的生产需求。 公司的产品以高真空和超高真空应用设备为特色，主要包括各种磁控溅射镀膜系统、蒸发镀膜系统、PLD、超高真空排气台、真空热处理设备、真空钎焊炉、化学气相沉积、等离子体增强气相沉积系统、以及用户特殊定制的设备、各种磁控靶、各种真空阀门及标准件等，我们产品可应用于各高校、研究所及科研性质的企业，并得到用户的。 睿之达真空本着“进取、实现双盈”的思想，刻苦钻研，精工细作，用心做好每一台设备，处处为客户着想，以客户为中心，为用户提出良好的解决方案，只有用户的肯定与支持，才有睿之达真空的不断成长与壮大，睿之达真空真诚的希望与您合作，为您提供满意的设备。
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