一、设备简介：
PTL 系列低温等离子表面处理设备由真空腔体及高频等离子电源、抽真空系统、充气系统、自动控制系统 等部分组成。工作基本原理是在真空状态下，等离子作用在控制和定性方法下能够电离气体,利用真空泵将工作 室进行抽真空达到 30-40pa 的真空度，再在高频发生器作用下，将气体进行电离，形成等离子体（物质第四态）， 其显著的特点是高均匀性辉光放电，根据不同气体发出从蓝色到深紫色的彩色可见光，材料处理温度接近室温。 这些高度活跃微粒子和处理的表面发生作用，得到了表面亲水性、拒水性、低摩擦、高度清洁、激活、蚀刻等 各种表面改性。
等离子处理优点：
1. 环保技术：等离子体作用过程是气- 固相干式反应 ,不消耗水资源、无需添加化学药剂,对环境无污染。
2. 广适性：不分处理对象的基材类型,均可进行处理,如金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料都能很 好地处理；
3. 温度低：接近常温，特别适于高分子材料，比电晕和火焰方法有较长保存时间和较高表面张力。
4. 功能强：仅涉及高分子材料浅表面（10 -1000 埃），可在保持材料自身特性的同时，赋予其一种或多种 新的功能；
5. 低成本：装置简单，易操作维修，可连续运行，往往几瓶气体就可以代替数千公斤清洗液,因此清洗成 本会大大低于湿法清洗。
6. 全过程可控工艺：所有参数可由电脑设置和数据记录，进行工艺质量控制。
7. 处理物几何形状无限制：大或小，简单或复杂，部件或纺织品，均可处理。
二、技术参数
1、设备外形尺寸: 450(W)×380(D)×330(H)mm
2、真空仓体尺寸: Φ165×220(L)mm （5L）
3、仓体结构: 高纯石英腔体，外置电感耦合电极，无污染，内置石英托盘。
4、等离子发生器: 原装 PTL 公司射频电源，频率 13.56MHZ，功率 0-150W 调节，全电路保护，可连续长 时间工作。（风冷）。
5、控制系统:PLC 触摸屏全自动控制，采用欧姆龙、施耐德等进口品牌电器元件,有手动、自动两种控制 模式，真彩台达触摸屏，西门子可编程控制器（PLC），美国产真空压力传感系统，可在线设定、修改、 监控真空压力、处理时间、等离子功率等工艺参数，并具有故障报警、工艺存储等多种功能。在自动模式 下设置各项工艺参数，即可一键启动，连续重复运行。手动模式用于实验工艺以及设备维护维修。
三、工艺流程：
3.1 处理工艺流程 装入工件→抽真空→冲入反应气体→等离子放电处理→回冲气体→取出工件
3.2 工艺控制：
3.2.1 处理时间控制： 1 秒～120 分钟连续可调。
3.2.2 等离子放电压力：30～80Pa
3.2.3 功率设定范围：0～150W 连续可调
3.2.4 流量设定范围： 气体 1（0～300ml/min） 气体 2（0～500ml/min）
3.3 PLC 软件功能（操控界面）
3.3.1 主画面：实时监视并显示运行状态及数据，等离子电源功率、阀门开关、真空压力、运行时间等。
3.3.2 参数设置：可设定、修改工艺参数及步骤
3.3.3 工作状态：可在线查看真空压力、等离子功率等数据及状态
3.3.4 故障报警：多种故障检测、报警及互锁保护。
四、真空泵：VRD-8
五、场地要求
电 源：两相三线，独立接地，接地电阻≤2Ω。应使用截面积 3mm2以上的接地线将设备接至 PE。
真空泵排放气管：软管，管径（内径）建议将排气管接至室外
场地温度：≤40℃
相对湿度：RH（35-85）%
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