概述

ME-L 是一款科研级全自动高精度穆勒矩阵型椭偏仪，凝聚了颐光科研团队在椭偏技术多年的投入，其采用行业的创新技术，包括消色差补偿器、双旋转补偿器同步控制、穆勒矩阵数据分析等。可应用于各种各向同性/异性薄膜材料膜厚、光学纳米光栅常数以及一维/二维纳米光栅材料结构的表征分析。
 

双旋转补偿器(DRC)配置一次测量全部穆勒矩阵16个元素； 配置自动变角器、五维样件控制平台等优质硬件模块； 软件交互式界面配合辅助向导式设计，易上手、操作便捷； 丰富的数据库和几何结构模型库，保证强大数据分析能力。

 
一、产品特点
1、采用氘灯和卤素灯复合光源，光谱覆盖紫外到近红外范围 (193-2500nm)；



2、可实现穆勒矩阵数据处理，测量信息量更大，测量速度快、数据更加精准；



3、基于双旋转补偿器配置，可一次测量获得全部穆勒矩阵的16个元素，相对传统光谱椭偏仪可获取更加丰富全面的测量信息；



4、颐光技术确保在宽光谱范围内，提供优质稳定的各波段光谱；





5、数百种材料数据库、多种算法模型库，涵盖了目前绝大部分的光电材料；



6、集成对纳米光栅的分析，可同时测量分析纳米结构周期、线宽、线高、侧壁角、粗糙度等几何形貌信息；




二、产品应用
半导体薄膜结构：介电薄膜、金属薄膜、高分子、光刻胶、硅、PZT膜，激光二极管GaN和AlGaN、透明的电子器件等；
半导体周期性纳米结构：纳米光栅，套刻误差，T型相变存储器等；
新材料，新物理现象研究：材料光学各向异性，电光效应、弹光效应、声光效应、磁光效应、旋光效应、Kerr效应、Farady效应等；
平板显示：TFT、OLED、等离子显示板、柔性显示板等；
光伏太阳能：光伏材料（如Si3N4、Sb2Se3、Sb2S3、CdS等）反射率，消光系数测量，膜层厚度及表面粗糙度测量等；
功能性涂料：增透型、自清洁型、电致变色型、镜面性光学涂层，以及高分子、油类、Al2O3表面镀层和处理等；
生物和化学工程：有机薄膜、LB膜、SAM膜、蛋白子分子层、薄膜吸附、表面改性处理等；
块状材料分析：固体（金属、半导体、介质等）或液体（纯净物或混合物）的折射率n和消光系数k表征，玻璃新品研发和质量控制等。
建议配件

温控台	Mapping扩展模块	真空泵	透射吸附组件

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