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全谱直读光谱仪

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产品概述：
优势：

1、的第二代CCD全谱光谱仪制造技术（数字化技术替代老式体积庞大笨重的光电倍增电子管模拟技术）、通道不受限制 ；

2、引进欧洲技术、同国际光谱仪技术同步，国内能生产真空CCD全谱技术光谱仪的制造商；

3、基体范围内通道改变、增加不需费用

4、升级多基体方便，无须变动增加硬件 ；

5、优良的数据稳定性，同一样品不同的时间段分析，可获得良好的数据一致性 ；

6、体积小、重量轻， 移动安装方便 ；

7、高集成度、高可靠性、高稳定性 ；

8、节电、节材、能耗只是普通光谱仪50%。

主要特点：

• 1、可测定包括痕量碳（C），磷（P）,硫（S）元素,适用于多种金属基体，如：铁基，铝基，铜基，镍基，铬基，钛  基，镁基，锌基，锡基和铅基。全谱技术覆盖了全元素分析范围，可根据客户需要选择通道元素；

• 2、分析速度快捷，20秒内测完所有通道的元素成分。针对不同的分析材料，通过设置预燃时间及标线，使仪器用最短的时间达到的分析效果；

• 3、光学系统采用真空恒温光室， 激发时产生的弧焰由透镜直接导入真空光室，实现光路直通,消除了光路损耗，提高检出限，测定结果准确，重现性及长期稳定性；

• 4、特殊的光室结构设计，使真空室容积更小，抽真空速度不到普通光谱仪的一半；

• 5、自动光路校准，光学系统自动进行谱线扫描，确保接收的正确性，免除繁琐的波峰扫描工作。仪器自动识别特定谱线，与原存储线进行对比，确定漂移位置，找出分析线当前的像素位置进行测定；

• 6、开放式的电极架设计，可以调整的样品夹，便于各种形状和尺寸的样品分析；

• 7、工作曲线采用国际标样，预做工作曲线，可根据需要延伸及扩展范围，每条曲线由多达几十块标样激发生成，自动扣除干扰；

• 8、HEPS数字化固态光源，适应各种不同材料 ；

• 9、固态吸附阱，防止油气对光室的污染，提高长期运行稳定性；

• 10、铜火花台底座，提高散热性及坚固性能；

• 11、合理的氩气气路设计，使样品激发时氩气冲洗时间缩短，为用户节省氩气，氩气消耗不到普通光谱仪的一半；

• 12、采用钨材料电极，电极使用寿命更长，并设计了电极自吹扫功能，清洁电极更加容易；

• 13、高性能DSP及ARM处理器，具有超高速数据采集及控制功能并自动实时监测光室温度、真空度、氩气压力、光源、激发室等模块的运行状况；

• 14、仪器与计算机之间采用以太网连接，抗干扰性能好，外部计算机升级与仪器配置无关，使仪器具有更好的适用性；

• 15、核心器件全部，保证了仪器优秀的品质。

• 产品参数指标：

   

  光学系统
  光学结构	帕邢-龙格结构的全谱真空型光学系统
  光室温度	自动控制恒温：35℃±0.5℃
  波长范围	160-800nm
  光栅焦距	350 mm
  光栅刻线	3600 l/mm
  一级光谱线色散率	1.2 nm/mm
  探测器	多块高性能线阵CCD
  平均分辨率	10pm/pixel
  激发台
  气   体	冲氩式
  氩气流量	激发时3-5L/min， 待机时:无须待机流量
  电   极	钨材喷射电极技术
  吹   扫	点击自吹扫功能
  补   偿	热变形自补偿设计
  分析间隙	样品台分析间隙：4mm
  激发光源
  类   型	HEPS数字化固态光源
  频   率	100-1000Hz
  放电电流	1-80A
  特殊技术	放电参数优化设计
  预   燃	高能预燃技术
  数据采集系统
  处理器	ARM处理器，高速数据同步采集处理
  接   口	基于DM9000A的以太数据传输
  电源与环境要求
  输   入	220VAC 50Hz
  功   率	分析时700W，待机状态40W
  工作温度	10-30℃（该温度范围内温度变化不大于5℃/h）
  工作湿度	20-80%
  尺寸与重量
  主机尺寸	800*750*500 mm
  重      量	120Kg

  第二代CCD光谱仪技术, 广泛应用于冶金、铸造、机械、汽车制造、航空航天、兵器、金属加工等领域的生产工艺控制，炉前化验，中心实验室成品检验。落地式全谱直读光谱仪体积小、稳定性好、检测限低、分析速度快、运行成本低、操作维护方便，是控制产品质量的理想选择。

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