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VDP-A系列等离子去胶系统

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更新时间：2023-08-05 09:12:23浏览次数：181次

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深圳市奥坤鑫科技有限公司

经营模式：其他

商铺产品：42条

所在地区：广东深圳市

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产品简介

整机结构前端设备操作单元、前端EFEM单元及等离子处理单元

详细介绍

整机结构	前端设备操作单元、前端EFEM单元及等离子处理单元，前端EFEM系统与等离子体处理单元分体式设计
等离子体源	射频式电感耦合等离子体源或双频等离子体源
反应腔室	标准设计为双反应腔室，可根据需求定制单反应腔室和多反应腔室结构
机械传片	单臂或双臂高精度机械手
Wafer升降	机械式Wafer pin升降结构，Wafer pin采用特定工艺处理
真空泵	干式真空泵，根据安装位置及工艺不同，选择100-600m³/h规格。如工艺需求，可增加分子泵。
工艺压力控制	自动调压蝶阀
真空检测	管道真空计、反应腔室全量程真空计、工艺真空计
工艺气体种类	标准配置Ar、N2、O2，可增加CF4及其他工艺气体
气体流量控制	质量流量控制器（MFC）
反应腔室温度范围	50 - 280℃
控制系统	基于工业电脑设计开发的人机交互系统，系统设计人性化、操作简单