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紫外线清洗技术

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更新时间：2023-08-07 12:32:12浏览次数：114次

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深圳正阳工业清洗设备有限公司

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设备简介：当聚合物以类膜的形式稀疏分布时，通过UV光照射氧化反映可以进行到内部，聚合物最终分解成分子如CO2,H2O,O2,N2等,它们蒸发或者离散，从表面消失

详细介绍

设备简介 ：当聚合物以类膜的形式稀疏分布时，通过UV光照射氧化反映可以进行到内部，聚合物最终分解成分子如CO2,H2O, O2, N2等,它们蒸发或者离散，从表面消失。这些反映形成了清洗的效果。
UV清洗方法对于大块的污染来说就比较弱，但可以分解污染膜成分子并且清除。表1通过玻璃板的接触角度反映了各种清洗方法之间清洗力度的比较。在水洗中，接触角度不低于13度,但UV光干洗中，它可能低于4度。
消除有机污染物，提高湿度增强密着力，此外,结合传统的湿式清洗技术，清洗效果要更准碗。如图片1 -3中，湿度随着清理方法的不同而改变。

UV光清洗技术可以减少表面污染到少于一个分子，到目前为止，一直被用于终端过程。反向的清洗概念(在UV光清洗之后又增加了一个纯水湿洗的过程)已经应用到实际的生产领域。图形1显示了UV光清洗移除了几乎所有的油脂膜之后，表面又被纯水清洗，于是所有的自由粒子都被洗掉已达到一个无污染的表面。这是的清洗方法，不仅应用到LCD制造中，而且应用到了光刻和reticules的制造中。