APF与CPF系列产品特点
* 的温度均匀性 * 快速的循环时间 * 精准的编程与控制 * 处理进程序列控制 * 易于装料 * 自动处理 * 性能稳定 * 可同时作为高温真空炉 | * 温度高达2500°C * 快速的热响应 * 露点检测与控制 * 湿/干 氢气氛 * 对参数变化的快速响应 * 多种尺寸、产能可选 * 可供烧金属化陶瓷 * 精确控制气氛防护 |
QUANTUM量子科学仪器贸易（北京）有限公司
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美国Thermal Technology自动热处理炉(APF Automatic Processing Furnace systems)与陶瓷热处理炉(CPF Ceramic Processing Furnace systems)可实现全自动、无人值守操作，可定制温度达2500℃。工件热处理循环时升温速率100℃/min，降温速率可达300℃/min。氢气炉/高真空炉可选。可在炉顶与炉底装备加热器，整个热区的温度均匀性。美国Thermal Technology的APF与CPF系列炉具适于对高纯度的*陶瓷材料进行热处理，避免了其对传统石墨炉污染的敏感性。APF与CPF的高真空和高温使其也适于难熔金属的加工。不含真空泵的APF与CPF可以通入惰性或还原性气氛。 系统组成：真空腔，金属热区，电源，真空泵，可编程控制系统；可定制升级。 系统的热区可在多种环境内工作：湿/干氢气、离解干氨、惰性气体、氮气、真空等。加热体根据不同的工作温度使用钼片、钼网、钨网等，表面积大，可提高工作区的温度均匀性。多种产量、温度、处理能力可选，满足您的多种需求。
APF与CPF系列产品特点
* 的温度均匀性 * 快速的循环时间 * 精准的编程与控制 * 处理进程序列控制 * 易于装料 * 自动处理 * 性能稳定 * 可同时作为高温真空炉 | * 温度高达2500°C * 快速的热响应 * 露点检测与控制 * 湿/干 氢气氛 * 对参数变化的快速响应 * 多种尺寸、产能可选 * 可供烧金属化陶瓷 * 精确控制气氛防护 |
加热体 | 辐射屏蔽 | 温度 | 常规温度 |
钨 | 钨&钼 | 2500°C | 2200°C |
钼 | 钼&不锈钢 | 1700°C | 1600°C |
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