东莞市大源智能设备科技有限公司
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等离子抛光机基本原理介绍等离子电浆抛光设备是利用工件与抛光液中通电脱离的金属离子来达到抛光工件表面的结果
等离子抛光机（电浆抛光设备）运作过程
EPP（等离子抛光技术）将被抛光的金属工件放在挂具上，作为阳极沉入低浓度的中性盐配制的抛光液中，抛光液及抛光槽与阴极相连。在工件进入抛光液的过程中，抛光液电解产生的气体和工件与抛光液接触位置瞬时短路，所蒸发的水蒸汽会形成一个包围工件的气层，将工件与抛光隔开。由于微观凸起的位置电场强大，气层在直流电压的作用下进入等离子态后，会优先在微观凸起的位置形成放电通道，将这些位置的材料去除，从而实现对工件的抛光。目前优化后的EPP（等离子）抛光工件Ra值可以达到9.3nm，表面光反射率可以达到50.05%。
EPP等离子抛光机技术特点与优势
EPP（等离子抛光技术）又称为零件表面平整光亮技术，使零件表面平坦化，并且变形层变化较小，零件表面毫无划痕的抛光工艺，增加零件表面光亮度，提高其耐磨性和耐磨蚀性。等离子电浆抛光设备采用的抛光液的氧化物粒径小，硬度强，故抛光时不产生划痕，抛光效果好。加工出来的工件表面光亮美观，色泽鲜艳，光亮夺目，还可以防止工件的锈蚀，保持与提高工件表面的光泽，起到清洁工件与磨具的作用。同时能去除油污，软化工件表面以加速磨削，减少磨具对工件的冲击，改善了工件条件。
由于抛光溶液不参加反应，故可以长时间使用，并且不易变质，与传统的电解抛光、化学抛光相比，成本非常低。
EPP（等离子）抛光是一种全新的属表面处理工艺，仅在工件表面的分子层与等离子反应，分子中原子一般间距为0.1～0.3nm，处理深度为0.3～4.5rim，抛光特的表面粗糙度在Ra=0.1um范围内，因此等离子纳米化学活化工件表面，去除表面分子污染层，交叉链接表面化学物质。
等离子抛光机技术特点与优势
EPP等离子抛光技术的亮点主要体现在，能够对表面形状复杂的零件进行抛光处理，加工一致性好，而且该方法采用的抛光液是低浓度的无机盐溶液，减少了在抛光液上的投资，降低了整体的成本，加工后的效果也比传统抛光方法要好。
EPP抛光（等离子抛光工艺）也非常适合细小精密结构件抛光。
等离子抛光设备工艺的优势主要表现
1.减轻环保压力——等离子抛光液非常环保，其废液可以直接排放而不会造成污染，也可以稍做处理回收利用。
2.简单、易行——EPP（等离子电浆）抛光采用专门的自动化控制设备，操作简单，维护方便，可减少作业人员，降低人工成本。
3.效率高——自动化控制设备通过专用药剂，可在十几秒到两分钟内达到电镀镜面效果，大大提高了生产效率。
4.效果好，提高成品质量——大源智能自动化控制等离子设备抛光出的产品具有高品质，而且可以对一些人工不可能抛光的精密工件加以抛光，其精度控制，尺寸影响小，通常可控制在0.1um/min，使整个工件表面和死角部位都可以达到一致的镜面效果。
5.适用面广——EPP等离子抛光可以适用的行业有手机电子、集成电路制造、运动器材（高尔夫球具）、眼镜制造、不锈钢洁具、餐具、科研、手表饰品、汽车配件、LED制程、数码配件、精密模具、等离子抛光和电解抛光的及五金制品等行业。
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