深圳市纳科电子有限公司
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PhoenixBeta研磨抛光设备：研磨/抛光分三个阶段：1.磨平阶段—使固定在中心加载夹持器上的多块试样处于同一平面2.无损伤(磨光)阶段—去除试样表面的变形损伤
Phoenix Beta研磨抛光设备：
研磨 / 抛光分三个阶段：
1. 磨平阶段—使固定在中心加载夹持器上的多块试样处于同一平面
2. 无损伤(磨光)阶段—去除试样表面的变形损伤，使其不影响观察到试样的真实组织
3. 抛光阶段—去除残余的微细磨痕
其特性如下：
1. 直径8" (203mm)或10" (254mm)的研磨/抛光机
2. 单或双盘研磨，转速可调
3. 稳固厚重的铸造底座能减少震动并增强了设备寿命
4. 的皮带驱动系统
5. 安装上VECTOR动力头就可升级为半自动试样制备系统
6. 半自动试样制备系统提高了效率增强了试样制备一致性
7. 随材料和试验人员的不同，但试样制备的一致性保持不变
8. 单点加载荷和中心加载荷模式
9. 中心加载荷模式允许每任意一个试样能在制备过程中从夹持器中取下，以便于检查。也可以每次只制备一个试样
10. 通过LED 显示屏来改变研磨 / 抛光时间
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