详细摘要：通过离子交换法和水解法制备不同粒径的稳定硅溶胶，经钝化添加化学助剂以及特殊工艺配制的二氧化硅抛光浆料。适用集成电路/半导体/特殊材料/金属材质/脆硬材料的镜面抛光。
产品型号：所在地：江苏省无锡新吴区行创四路19-2发布时间：2024-03-19 在线留言
无锡吉致电子科技有限公司
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详细摘要：通过离子交换法和水解法制备不同粒径的稳定硅溶胶，经钝化添加化学助剂以及特殊工艺配制的二氧化硅抛光浆料。适用集成电路/半导体/特殊材料/金属材质/脆硬材料的镜面抛光。
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详细摘要：通过离子交换法和水解法制备不同粒径的稳定硅溶胶，经钝化添加化学助剂以及特殊工艺配制的二氧化硅抛光浆料。适用集成电路/半导体/特殊材料/金属材质/脆硬材料的镜面抛光。
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详细摘要：通过离子交换法和水解法制备不同粒径的稳定硅溶胶，经钝化添加化学助剂以及特殊工艺配制的二氧化硅抛光浆料。适用集成电路/半导体/特殊材料/金属材质/脆硬材料的镜面抛光。
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详细摘要：通过离子交换法和水解法制备不同粒径的稳定硅溶胶，经钝化添加化学助剂以及特殊工艺配制的二氧化硅抛光浆料。适用集成电路/半导体/特殊材料/金属材质/脆硬材料的镜面抛光。
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详细摘要：吉致电子氧化铈抛光液纯度高，氧化铈含量比重高，分散性好、乳液均匀悬浮性好。切削能力强、抛光精度高、使用寿命长。
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详细摘要：吉致电子氧化铈抛光液纯度高，氧化铈含量比重高，分散性好、乳液均匀悬浮性好。切削能力强、抛光精度高、使用寿命长。
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详细摘要：吉致电子氧化铈抛光液纯度高，氧化铈含量比重高，分散性好、乳液均匀悬浮性好。切削能力强、抛光精度高、使用寿命长。
产品工艺及用途：适用超薄脆硬玻璃、异形工件、硫系软玻璃及红外硅系列
详细摘要：吉致电子金刚石抛光液在研磨过程中可提供大量细小切削刃，降低表面粗糙度，提高工件的去除率。适用于金属/陶瓷/晶体/蓝宝石/LED材料/SiC表面等抛光。
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详细摘要：吉致电子金刚石抛光液在研磨过程中可提供大量细小切削刃，降低表面粗糙度，提高工件的去除率。适用于金属/陶瓷/晶体/蓝宝石/LED材料/SiC表面等抛光
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详细摘要：吉致电子金刚石抛光液在研磨过程中可提供大量细小切削刃，降低表面粗糙度，提高工件的去除率。适用于金属/陶瓷/晶体/蓝宝石/LED材料/SiC表面等抛光
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详细摘要：吉致电子金刚石抛光液在研磨过程中可提供大量细小切削刃，降低表面粗糙度，提高工件的去除率。适用于金属/陶瓷/晶体/蓝宝石/LED材料/SiC表面等抛光
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详细摘要：通过离子交换法和水解法制备不同粒径的稳定硅溶胶，经钝化添加化学助剂以及特殊工艺配制的二氧化硅抛光浆料。适用集成电路/半导体/特殊材料/金属材质/脆硬材料的镜面抛光。
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详细摘要：通过离子交换法和水解法制备不同粒径的稳定硅溶胶，经钝化添加化学助剂以及特殊工艺配制的二氧化硅抛光浆料。适用集成电路/半导体/特殊材料/金属材质/脆硬材料的镜面抛光。
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详细摘要：通过离子交换法和水解法制备不同粒径的稳定硅溶胶，经钝化添加化学助剂以及特殊工艺配制的二氧化硅抛光浆料。适用集成电路/半导体/特殊材料/金属材质/脆硬材料的镜面抛光。
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详细摘要：吉致电子氧化硅抛光液分散性好、易摇散且不团聚。吉致电子氧化硅精抛液能有效缩短工时，磨抛后工件呈现镜面效果，无划伤、高平坦。
产品型号：所在地：江苏省无锡新吴区行创四路19-2发布时间：2024-03-18 在线留言
详细摘要：吉致电子氧化硅抛光液分散性好、易摇散且不团聚。吉致电子氧化硅精抛液能有效缩短工时，磨抛后工件呈现镜面效果，无划伤、高平坦。
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详细摘要：吉致电子氧化铝抛光液分散性好、乳液均一，提升抛光速率，降低微划伤的概率，提高抛光精度。适用于光学晶体、SiC表面抛光、超硬陶瓷和金属表面.
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详细摘要：吉致电子氧化铝抛光液分散性好、乳液均一，提升抛光速率，降低微划伤的概率，提高抛光精度。适用于光学晶体、SiC表面抛光、超硬陶瓷和金属表面.
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详细摘要：吉致电子氧化铝抛光液分散性好、乳液均一，提升抛光速率，降低微划伤的概率，提高抛光精度。适用于光学晶体、SiC表面抛光、超硬陶瓷和金属表面
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详细摘要：吉致电子氧化铝抛光液分散性好、乳液均一，提升抛光速率，降低微划伤的概率，提高抛光精度。适用于光学晶体、SiC表面抛光、超硬陶瓷和金属表面
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