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白光干涉仪AE-100M

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产品型号AE-100M

品       牌

厂商性质其他

所  在  地

更新时间:2024-03-11 09:42:49浏览次数:86次

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经营模式:其他

商铺产品:7条

所在地区:

联系人:刘先生

产品简介

结合光学显微镜与白光干涉仪功能的扫描式白光干涉显微镜,结合显微物镜与干涉仪、不需要复杂光调整程序,兼顾体积小、纳米分辨率、易学易用等优点,可提供垂直扫描高度达400um的微三维测量,适合各种材料与微组件表面特征和微尺寸检测。应用领域包含:玻璃镜片、镀膜表面、晶圆、光碟/影碟、精密微机电元件、平面液晶显示器、高密度线路印刷电路板、IC封装、材料分析与微表面研究等。

详细介绍

 

白光干涉仪AE-100M

产品用途:

     结合光学显微镜与白光干涉仪功能的扫描式白光干涉显微镜,结合显微物镜与干涉仪、不需要复杂光调整程序,兼顾体积小、纳米分辨率、易学易用等优点,可提供垂直扫描高度达400um的微三维测量,适合各种材料与微组件表面特征和微尺寸。应用领域包含:玻璃镜片、镀膜表面、晶圆、光碟/影碟、精密微机电元件、平面液晶显示器、高密度线路印刷电路板、IC封装、材料分析与微表面研究等。

产品特点:

 纳米深度3D
 高速、无接触量
 表面形状、粗糙度分析
 非透明、透明材质皆适用
 非电子束、非雷射的安全量测
 低维护成本

级的3D图形处理与分析软体(Post Topo

  提供多功能又具友好界面的3D图形处理与分析
  提供自动表面平整化处理功能
  提供高阶标准片的软件自校功能
  深度、高度分析功能提供线型分析与区域分析等两种方式
  线型分析方式提供直接追溯ISO定义的表面粗糙度(Rorghness)与起伏度
  waviness)的测量分析。可提供多达17种的ISO量测参数与4种额外量测数据(Wafer
  区域分析方式提供图形分析与统计分析
  具有平滑化、锐化与数字过滤波等多种二维快速利叶转换(FFT)处理功能
  量测分析结果以BMP    相关产品:

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