北京特思迪半导体设备有限公司
本机是一款全自动晶片刷洗机,全程封闭环境采用机械手自动操作,具备刷洗甩干功能,适用于各种半导体衬底材料抛光后的刷洗,可有效减少晶片表面颗粒污染。
具备刷洗甩干功能,全程封闭环境机械手操作,风险小,避免二次污染
PLC触摸屏控制,机械手自动完成cassette to cassette的全自动晶片刷洗工作
可兼容2、4、6英寸晶片
尽量减少洁净间的占地面积
项目 | TWB-200 |
晶圆尺寸 | 兼容2、4、6inch |
全自动上下片系统 | 有 |
上料平台 | 2个 |
下料平台 | 2个 |
清洗工位 | 2个 |
晶片固定 | 真空吸附 |
刷洗 | PVA刷,可上下左右移动 |
干燥方式 | 高速甩干 |
控制系统 | PLC触摸屏 |
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